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中文名稱：硅片氧沉淀特性的測(cè)定-間隙氧含量減少法

英文名稱：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 19444-2004

標(biāo)準(zhǔn)類型CN

發(fā)布日期：2004-2-5

實(shí)施日期：2004-7-1

摘要：

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