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中文名稱(chēng)：電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材

英文名稱(chēng)：High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 29658-2013

標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型CN

發(fā)布日期：2013-9-6

實(shí)施日期：2014-5-1

摘要：

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